技术参数
1. 设备型号：GeminiSEM300
2. 分辨率：3.5nm 30 kV高真空模式下
3. 真空模式：高真空、低真空和环境真空
4. 加速电压：200V～30KV
5. 样品仓尺寸：330mm（D），270mm(H)
6. 马达台：X=Y=150mm; Z=60mm; T=–10°～+ 60°; R=360°连续旋转
■ 设备功能
1. 对材料表面及断口形貌进行观察；
2. 对材料的微区进行化学成分分析，包括点、线和面三种方式；
3. 对晶体样品进行取向分析，可以用极图、反极图、ODF取向分布图以及取
向差等表示。
■ 操作规程
1. 开机前，检查电源连线及设备开关状态；
2. 按照顺序，打开UPS-氮气-空压机-循环水-主机STANDBY-主机ON-电脑主
机-软件EM登录-开Bypass阀-关Bypass阀-bakeout烘烤14小时左右-gun
Vacuum小于5e-9mbar后开电子枪gun on；
3. 点击Vent泄真空将试样正确放入样品室，关上样品室；
4. 点击Pump抽真空；
5. 调整电镜参数（加速电压、束斑尺寸、放大倍数及扫描速率等）；
6. 观察分析之后，先关高压EHT OFF，再点击Vent放气，更换试样；
7. 实验完成后，按实际情况，使系统处于合适的状态下（关闭模式、待机模
式和夜间模式）。
■ 注意事项
1. 室内温度保持在21-23℃，湿度小于50%；
2. 放气之前一定要先关高压；
3. 操作样品台时应格外小心，以免撞击各种探头；
4. 注意保护电镜真空系统，样品保持干净，禁止将不干净样品放入样品室。
